儀器名稱：光刻機

儀器價值(萬)：350000

生產(chǎn)制造商：墨科微電子（無錫）有限公司

規(guī)格型號：MA-4h

產(chǎn)地國別：中國

儀器分類：半導(dǎo)體集成電路工藝實驗設(shè)備

存放地點：電子信息學(xué)院黃光工藝實訓(xùn)室

啟用日期：2024年11月9日

參考收費標(biāo)準(zhǔn)：詳見《麗水職業(yè)技術(shù)學(xué)院大型儀器設(shè)備開放共享服務(wù)收費標(biāo)準(zhǔn)》

聯(lián)系人：楊捷   

聯(lián)系方式:18329043501

儀器詳情

主要功能：可用于微米級器件光刻曝光工藝

主要技術(shù)指標(biāo)：接觸式曝光、單面曝光、曝光分辨率1um、套刻精度1um、基片尺寸102mm

主要學(xué)科領(lǐng)域：半導(dǎo)體、集成電路

服務(wù)內(nèi)容：教學(xué)實訓(xùn)服務(wù)：光刻工藝基礎(chǔ)教學(xué)、設(shè)備專項技能培養(yǎng)；科研支撐服務(wù)：微結(jié)構(gòu)加工、微米級器件光刻曝光工藝

收費依據(jù)：